等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領(lǐng)域。

應用范圍：
☆ 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
☆ 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
☆ 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質(zhì)。
☆ 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
☆ 清洗半導體元件、印刷線路板。
☆ 清洗生物芯片、微流控芯片。
☆ 清洗沉積凝膠的基片。
☆ 高分子材料表面修飾。
☆ 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
☆ 改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

產(chǎn)品優(yōu)點：
☆ 可選配多種類型噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境；
☆ 設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節(jié)省客戶使用空間；
☆ 可In-Line式安裝于客戶設備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本；
☆ 使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
☆ 主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理；國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

產(chǎn)品參數(shù)：
名稱：噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
型號：CRF-YHA2
電源：220V/AC,50/60Hz
功率：800W/25KHz
處理高度：5-15mm
處理寬幅：20-80mm（Option）
內(nèi)部控制模式：模擬控制
工作氣體：Compressed Air （0.4mpa）